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                                                            繼半導體材料后,光刻機相關設備市場或受日韓貿易戰影響-山东最新新闻

                                                            2019年08月19日 11:05 来源:山东最新新闻 编辑:大发快3

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                                                            【假扮外卖员打女童】

                                                            在半導體設備的供應商名單中◇□,前15大廠商營收佔總產值超過8成〇⊙,由於半導體製造廠商在設備選擇上多屬於長期合作模式☆☆↑,因而形成目前半導體設備廠商大者恆大的態勢↑♂。

                                                            整體來說↑♀↑,半導體晶圓製造的主要設備技術供應商以美國與日本為主□,高集中度的產業聚落也意味着容易受各國在貿易與進出口政策上的變動而影響產業狀況◇♂,例如中美貿易戰與近期的日韓關係惡化□⊙﹡,均為半導體產業添加不穩定因子☆∵,也持續考驗供應商對大環境的應變能力與經營策略〇⊿∴。

                                                            在蝕刻製程部分⊙,Applied-Materials、LAM Research、Tokyo Electron(TEL)、Hitachi High-Technology(HHT)是主要廠商⊿,市佔部分以LAM Research與TEL囊括近7成份額?。

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                                                            文丨拓墣產業研究院 徐韶莆注:本文為拓墣產業研究院原創內容☆⊙,歡迎轉發或分享☆。禁止非授權轉載、摘編、複製及鏡像等使用⌒□⌒。如需轉載⌒π,請文章底部留言獲取授權⌒。

                                                            最後在晶圓檢驗設備方面◇◇,美商KLA Tencor市佔最高超過5成∴∴,Applied Materials與Hitachi High-Technology是主要競爭對手⊿∴﹡,而日商ADVANTEST與美商Teradyne則是晶圓測試市場的主要供應商∴⌒。

                                                            本文首發於微信公眾號:拓墣產業研究院π◇。文章內容屬作者個人觀點﹡⌒∟,不代表和訊網立場△↑。投資者據此操作□,風險請自擔⊿﹡。

                                                            日本與韓國同為亞洲區半導體產業一線集團∴〇π,而2019年8月2日♀π,日本宣布將韓國移出適用貿易優惠待遇的白名單后▽↑,韓國半導體產業受到的影響也備受市場關注∵♂┊。對半導體設備而言⊿﹡,機台在收到PO后約需半年製作時間﹡∴π,如果出口審核的時間能納入製作機台的時間內♂,則較不會產生負面影響;然而〇,倘若審核時間必須疊加上機台出貨時間□,對機台出貨的優先級及晶圓廠的產能規劃就會造成不小影響↑〇﹡。

                                                            在晶圓清洗製程部分♀,日商SCREEN以市佔超過5成位居首位?♀◇,旗下的桶槽式(WET Bench)與單晶圓式(Single Wafer)晶圓清洗設備是市場領頭羊π∵,競爭對手如韓國SEMES、LAM Research與TEL的清洗設備皆有比照SCREEN相對應的機台設計?∵。

                                                            從日本半導體設備供應商來看∵△∟,會造成影響的獨佔性或許不如半導體材料大⊙?,但仍不可忽略其可能影響性⌒┊┊,尤其是在晶圓廠的產線配置上π,多半有固定機台與機型間相互搭配⊿,由過去的機台參數調整經驗與實際產品驗證建構出最有效率的生產線∴,若要變更使用機台┊┊⊙,即便機台參數一致?〇,也不能保證能得到與原來產品一樣的結果〇▽。因此就算半導體設備在功能分上有替代廠商⊿,但若非過去驗證過的機台┊↑□,也不能抹除韓國半導體晶圓廠對於日本出口審核的潛在威脅♀。

                                                            值得一提的是⊿▽?,荷蘭商ASML的光刻機是晶圓製造中相當重要且必須的設備♀,而ASML的光阻劑布植設備就是與日商TEL合作∵,晶圓做完光阻劑布植後會直接傳送進做曝光顯影製程空間┊⊿,因此ASML某些機型的光刻機┊♂,原則上是與TEL機台聯結在一起?▽◇,裝機與調機期間也是同時進行▽,倘若TLE機台出口因審核而影響交機時間△┊?,連帶也會影響光刻機建置↑,對於韓國積極投資擴大半導體產業帶來潛在的風險評估♀☆⊙,後續影響程度仍需重點觀察△⌒△。

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                                                            在薄膜沉積製程部分┊π♂,Applied Materials佔主導地位∟,其CVD(化學氣相沉積)設備市佔率近6成△⊙,而在PVD(物里氣相沉積)設備部分市佔率達7成┊〇,競爭對手TEL、LAM Research等分食剩餘市場⊿△♂,值得一提的是﹡,ASM International的原子層沉積(Atomic Layer Deposition♀,ALD)針對特定需求市場具有很高的機台使用率▽⊿。

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